本发明涉及描绘装置、描绘方法以及记录介质。
一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。

山崎修一

卡西欧计算机株式会社

日本东京都

本发明涉及描绘装置、描绘方法以及记录介质。
一种描绘装置，其特征在于，该描绘装置具备处理器，所述处理器获取作为描绘对象的手或脚的指甲的区域的长宽比，在根据所述指甲的区域的长宽比改变美甲设计的长宽比来使所述美甲设计嵌合于所述指甲的区域的第1嵌合模式中，将所述美甲设计的长宽比的变化率设定为不超过对应于所述美甲设计的界限变化率的范围的值。