二氧化硅膜过滤器10包括：多孔质基材13、和被形成在多孔质基材13上且具有芳基的二氧化硅膜18。
该二氧化硅膜18的、利用能量分散型X射线分光法(EDX)进行元素分析而得到的原子数比Si/C为0.2～15的范围。
另外，二氧化硅膜18的膜厚优选为30nm～300nm的范围，傅里叶变换红外吸收光谱(FT－IR)中的、Si－O－Si键的吸收强度X与基于芳基的吸收强度Y的比值X/Y优选为5.0～200的范围。

三浦绫 古川昌宏

日本碍子株式会社

日本国爱知县

二氧化硅膜过滤器10包括：多孔质基材13、和被形成在多孔质基材13上且具有芳基的二氧化硅膜18。
该二氧化硅膜18的、利用能量分散型X射线分光法(EDX)进行元素分析而得到的原子数比Si/C为0.2～15的范围。
另外，二氧化硅膜18的膜厚优选为30nm～300nm的范围，傅里叶变换红外吸收光谱(FT－IR)中的、Si－O－Si键的吸收强度X与基于芳基的吸收强度Y的比值X/Y优选为5.0～200的范围。