本发明公开了一种具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂，所述梳型结构阴离子型高分子表面活性剂为烷氧基化低聚十五烯(烷)基间酚酯，至少包括如下结构式的成分：

顾斌 戴志成 孙怡洁

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本发明公开了一种具有梳型结构阴离子型高分子表面活性剂，所述梳型结构阴离子型高分子表面活性剂为烷氧基化低聚十五烯(烷)基间酚酯，至少包括如下结构式的成分：