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专利摘要

本发明涉及一种用于纳米材料合成和修饰一体化的连续生产设备及其方法,包括从外至内依次设置的外筒体、内筒体和圆盘,该外筒体、内筒体和圆盘同轴设置,在所述外筒体的上端开口处转动的安装有筒盖,该外筒体下部的一侧形成出液管口,所述内筒体的底部设置有与外筒体连通的导流孔,所述的圆盘与内筒体固定安装在一起,转动的安装在外筒体的内部;所述圆盘的上端面形成第一表面,内筒体的内侧壁形成第二表面。
本发明的优点是:通过将表面修饰反应液铺展呈纵向薄膜,反应液形成水平方向的薄膜,解决普通薄膜反应器纳米反应液停留时间过短,生成纳米颗粒晶体缺陷。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010527180.4
申请日
2020-06-11
公开日
2020-08-07
公开号
CN111495291A
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

方杰

申请人

方杰

申请人地址

226000 江苏省南通市啬园路9号南通大学

专利摘要

本发明涉及一种用于纳米材料合成和修饰一体化的连续生产设备及其方法,包括从外至内依次设置的外筒体、内筒体和圆盘,该外筒体、内筒体和圆盘同轴设置,在所述外筒体的上端开口处转动的安装有筒盖,该外筒体下部的一侧形成出液管口,所述内筒体的底部设置有与外筒体连通的导流孔,所述的圆盘与内筒体固定安装在一起,转动的安装在外筒体的内部;所述圆盘的上端面形成第一表面,内筒体的内侧壁形成第二表面。
本发明的优点是:通过将表面修饰反应液铺展呈纵向薄膜,反应液形成水平方向的薄膜,解决普通薄膜反应器纳米反应液停留时间过短,生成纳米颗粒晶体缺陷。

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