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专利摘要

本发明公开了一种提高刷片机湿法清洗后干燥能力的装置及方法,刷片机具有湿法清洗晶圆的工作腔,工作腔安装有异丙醇喷头,所述异丙醇喷头通过一异丙醇传输管道与异丙醇提供源相连接,且所述工作腔通过一气流管道与一抽真空装置相连接。
本发明还公开干燥方法。
本发明在清洗后的晶圆表面喷洒异丙醇,可以有效地增大晶圆表面的表面张力,增强去除晶圆表面的水的能力,减少缺陷的产生并加速晶圆的干燥;在干燥过程中利用抽真空装置吸取工作腔内的气体形成真空环境,从而加速晶圆表面的水分和异丙醇的挥发,进一步提高晶圆的干燥速率,且简单实用,运行成本低,能有效改善晶圆的干燥效率,改良清洗制程工艺,同时提升清洗机台的产能。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910777161.4
申请日
2019-08-22
公开日
2019-11-19
公开号
CN110473811A
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态

发明人

雷海波 杭明光

申请人

上海华力集成电路制造有限公司

申请人地址

201315 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区康桥东路298号1幢1060室

专利摘要

本发明公开了一种提高刷片机湿法清洗后干燥能力的装置及方法,刷片机具有湿法清洗晶圆的工作腔,工作腔安装有异丙醇喷头,所述异丙醇喷头通过一异丙醇传输管道与异丙醇提供源相连接,且所述工作腔通过一气流管道与一抽真空装置相连接。
本发明还公开干燥方法。
本发明在清洗后的晶圆表面喷洒异丙醇,可以有效地增大晶圆表面的表面张力,增强去除晶圆表面的水的能力,减少缺陷的产生并加速晶圆的干燥;在干燥过程中利用抽真空装置吸取工作腔内的气体形成真空环境,从而加速晶圆表面的水分和异丙醇的挥发,进一步提高晶圆的干燥速率,且简单实用,运行成本低,能有效改善晶圆的干燥效率,改良清洗制程工艺,同时提升清洗机台的产能。

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