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专利摘要

本发明提供一种乙硼烷合成系统及方法。
所述乙硼烷合成系统包括罐体、罐盖、电磁搅拌器、排液管、气压传感器、进料管、第一排气管、第二排气管、保温层和控制器,所述罐体顶部封装固定有罐盖,所述罐盖表面连接有进料管、第一排气管和第二排气管,且罐盖表面安装有气压传感器,所述罐体内部底端安装有电磁搅拌器,所述罐体底部边缘连接有排液管,所述罐体外壁安装有控制器。
本发明采用调压器对罐体内部进行及时的气压调节,有效避免反应生成气体与频繁进出气体对反应环境的气压影响,极大保障反应的稳定性,同时采用恒温器和供气装置对设备内部气体进行循环稳定调节,配合气体直接均匀的喷入反应液中,极大提高稳定调节的效率与均匀性。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011380643.5
申请日
2020-12-01
公开日
2021-07-16
公开号
CN112452278B
主分类号
/B/B01/ 作业;运输
标准类别
一般的物理或化学的方法或装置
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态

发明人

陈国富 龚施健 于胜 陈金彬 林海宁

申请人

深圳市博纯半导体材料有限公司 博纯材料股份有限公司

申请人地址

518000 广东省深圳市福田区福保街道石厦社区石厦北二街西新天世纪商务中心A.B座B3710

专利摘要

本发明提供一种乙硼烷合成系统及方法。
所述乙硼烷合成系统包括罐体、罐盖、电磁搅拌器、排液管、气压传感器、进料管、第一排气管、第二排气管、保温层和控制器,所述罐体顶部封装固定有罐盖,所述罐盖表面连接有进料管、第一排气管和第二排气管,且罐盖表面安装有气压传感器,所述罐体内部底端安装有电磁搅拌器,所述罐体底部边缘连接有排液管,所述罐体外壁安装有控制器。
本发明采用调压器对罐体内部进行及时的气压调节,有效避免反应生成气体与频繁进出气体对反应环境的气压影响,极大保障反应的稳定性,同时采用恒温器和供气装置对设备内部气体进行循环稳定调节,配合气体直接均匀的喷入反应液中,极大提高稳定调节的效率与均匀性。

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