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专利摘要

一种过滤系统可以包括压力泵,所述压力泵被配置来在流动于第一室与第二室之间的流体上施加压力。
所述过滤系统还可包括流量传感器,所述流量传感器被配置来测定与流过在所述第一室与所述第二室之间沉积的膜的流体相关的至少一个参数。
所述过滤系统可包括压力传感器,所述压力传感器被配置来测定从所述第一室流到所述第二室的所述流体的压力读数。
所述过滤系统可包括过滤管理系统,所述过滤管理系统被配置来基于所述压力读数引起所述压力泵在流过所述膜的流体上施加恒定压力持续第一预定时间。
所述过滤管理系统可被配置来基于所述至少一个参数引起所述压力泵使穿过所述膜的所述流体流反转持续第二预定时间。

专利状态

基础信息

专利号
CN201580047508.X
申请日
2015-08-12
公开日
2020-06-23
公开号
CN106714942B
主分类号
/B/B04/ 作业;运输
标准类别
用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

埃里克·M·V·霍克 苏比尔·巴塔查尔吉 吉尔·赫维茨

申请人

沃特普兰尼特公司

申请人地址

美国加利福尼亚州

专利摘要

一种过滤系统可以包括压力泵,所述压力泵被配置来在流动于第一室与第二室之间的流体上施加压力。
所述过滤系统还可包括流量传感器,所述流量传感器被配置来测定与流过在所述第一室与所述第二室之间沉积的膜的流体相关的至少一个参数。
所述过滤系统可包括压力传感器,所述压力传感器被配置来测定从所述第一室流到所述第二室的所述流体的压力读数。
所述过滤系统可包括过滤管理系统,所述过滤管理系统被配置来基于所述压力读数引起所述压力泵在流过所述膜的流体上施加恒定压力持续第一预定时间。
所述过滤管理系统可被配置来基于所述至少一个参数引起所述压力泵使穿过所述膜的所述流体流反转持续第二预定时间。

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