目录

专利摘要

本实用新型涉及硅溶胶生产技术领域,公开了一种去除硅溶胶杂质的离心装置,包括底板,底板的上表面中部设有底座,所述底座的上部设有下防护罩,下防护罩的上表面前后两侧设有导向杆,导向杆的上部滑动连接上防护罩的下表面,所述下防护罩的左右两侧转动连接转轴的中部,转轴的靠近装置中心的一侧连接离心框的左右两侧,所述底板的上表面左侧设有驱动电机,驱动电机的输出轴固定连接第一带轮,第一带轮通过皮带连接第二带轮,第二带轮固定连接左侧所述转轴的左端。
本实用新型适用于一种去除硅溶胶杂质的离心装置,通过在离心框的外部设置下防护罩和上防护罩,从而使得离心框在离心的过程中被完全封闭,防止了杂质的飞溅。

专利状态

基础信息

专利号
CN202020366779.X
申请日
2020-03-22
公开日
2020-11-24
公开号
CN211989205U
主分类号
/B/B04/ 作业;运输
标准类别
用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

冯学满

申请人

岳阳才益精细化工有限公司

申请人地址

414000 湖南省岳阳市经济技术开发区奇西路020059号

专利摘要

本实用新型涉及硅溶胶生产技术领域,公开了一种去除硅溶胶杂质的离心装置,包括底板,底板的上表面中部设有底座,所述底座的上部设有下防护罩,下防护罩的上表面前后两侧设有导向杆,导向杆的上部滑动连接上防护罩的下表面,所述下防护罩的左右两侧转动连接转轴的中部,转轴的靠近装置中心的一侧连接离心框的左右两侧,所述底板的上表面左侧设有驱动电机,驱动电机的输出轴固定连接第一带轮,第一带轮通过皮带连接第二带轮,第二带轮固定连接左侧所述转轴的左端。
本实用新型适用于一种去除硅溶胶杂质的离心装置,通过在离心框的外部设置下防护罩和上防护罩,从而使得离心框在离心的过程中被完全封闭,防止了杂质的飞溅。

相似专利技术