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专利摘要

本实用新型提供了一种具有清洗功能的石膏旋流器装置,包括一中空回转筒体,所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体;所述椎体中部设有旋涡室,所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口;所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口;所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口;所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口,所述切角清洗水入口与一清洗水管接通通入清洗水流。
本实用新型所述石膏旋流器装置可实现石膏浆液的分离,增加了清洗功能,对旋流器的底流杂质进行冲洗,防止旋流器发生堵塞。

专利状态

基础信息

专利号
CN202020592903.4
申请日
2020-04-20
公开日
2021-01-22
公开号
CN212383903U
主分类号
/B/B04/ 作业;运输
标准类别
用于实现物理或化学工艺过程的离心装置或离心机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

李晓峰 张国柱 牛林新 张钧泰 谷小兵 白玉勇 吴静

申请人

大唐环境产业集团股份有限公司 清华大学

申请人地址

100097 北京市海淀区紫竹院路120号

专利摘要

本实用新型提供了一种具有清洗功能的石膏旋流器装置,包括一中空回转筒体,所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体;所述椎体中部设有旋涡室,所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口;所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口;所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口;所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口,所述切角清洗水入口与一清洗水管接通通入清洗水流。
本实用新型所述石膏旋流器装置可实现石膏浆液的分离,增加了清洗功能,对旋流器的底流杂质进行冲洗,防止旋流器发生堵塞。

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