一种低折射率膜，主要制作原料包括：硅溶胶，聚四氟乙烯悬浮液，稀释剂，pH调节剂，还包括作为底膜的聚四氟乙烯薄膜；采用特制的离心容器，可较好的制得均匀、完整的沉淀层，并采用分段离心法产生沉淀层，低速离心时，相对颗粒较大聚四氟乙烯颗粒先聚集沉淀，高速离心时，相对颗粒较小的二氧化硅颗粒更多的沉淀于表层，通过熔融烧结制得低折射率膜；本发明可广泛应用于电子产品等表面的低折层披覆，超薄面板间的低折射率层、粘结层等，具有较好的应用前景。

林志武 高凌文 杨滨

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一种低折射率膜，主要制作原料包括：硅溶胶，聚四氟乙烯悬浮液，稀释剂，pH调节剂，还包括作为底膜的聚四氟乙烯薄膜；采用特制的离心容器，可较好的制得均匀、完整的沉淀层，并采用分段离心法产生沉淀层，低速离心时，相对颗粒较大聚四氟乙烯颗粒先聚集沉淀，高速离心时，相对颗粒较小的二氧化硅颗粒更多的沉淀于表层，通过熔融烧结制得低折射率膜；本发明可广泛应用于电子产品等表面的低折层披覆，超薄面板间的低折射率层、粘结层等，具有较好的应用前景。