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专利摘要

本发明涉及基板处理装置、模拟分配方法和计算机可读取记录介质。
抑制向喷嘴的排出口的液溅并实现处理单元小型化。
液处理单元(U1)具有保持晶片(W)并使其旋转的旋转保持部(20);构成为从喷嘴(N1)对晶片(W)的表面(Wa)供给处理液(L1)的处理液供给部(40);包围由旋转保持部(20)保持的晶片W的周围并接收从处理液供给部(40)供给的处理液(L1)的杯体(30);控制器(10)。
杯体(30)具有防止从由旋转保持部(20)保持并旋转的晶片(W)甩出的液体飞散的外周壁(32)。
控制器(10)执行从喷嘴(N1)将处理液(L1)模拟分配到外周壁(32)和旋转保持部(20)之间的内侧区域(R)的处理。

专利状态

基础信息

专利号
CN201810076767.0
申请日
2018-01-26
公开日
2018-08-03
公开号
CN108355869A
主分类号
/B/B05/ 作业;运输
标准类别
一般喷射或雾化;对表面涂覆液体或其他流体的一般方法
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

久保田稔 山中晋一郎

申请人

东京毅力科创株式会社

申请人地址

日本东京都

专利摘要

本发明涉及基板处理装置、模拟分配方法和计算机可读取记录介质。
抑制向喷嘴的排出口的液溅并实现处理单元小型化。
液处理单元(U1)具有保持晶片(W)并使其旋转的旋转保持部(20);构成为从喷嘴(N1)对晶片(W)的表面(Wa)供给处理液(L1)的处理液供给部(40);包围由旋转保持部(20)保持的晶片W的周围并接收从处理液供给部(40)供给的处理液(L1)的杯体(30);控制器(10)。
杯体(30)具有防止从由旋转保持部(20)保持并旋转的晶片(W)甩出的液体飞散的外周壁(32)。
控制器(10)执行从喷嘴(N1)将处理液(L1)模拟分配到外周壁(32)和旋转保持部(20)之间的内侧区域(R)的处理。

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