本发明涉及一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，具体包括以下步骤：(1)清洁环境下，将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫，得到洁净的光学塑料基底材料；(2)清洁环境下，将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜，得到镀制了减反膜的光学塑料；(3)采用挥发性有机溶剂，对步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料进行气氛处理。
与现有技术相比，本发明在保持原本优异光学透过性能的同时，极大提高薄膜与基底界面的结合力，机械性能大幅提高，减反膜嵌入光学塑料表面的深度可以按需求灵活调控，镀制的减反膜可直接通过简单的操作方法在大面积基底上制备，易于实现低成本、大规模工业化生产。

王晓栋 赵慧月 沈军 苏怡璇

同济大学

200092 上海市杨浦区四平路1239号

本发明涉及一种用于光学塑料表面高强度嵌入式减反膜制备方法，具体包括以下步骤：(1)清洁环境下，将光学塑料基底材料进行冲洗吹扫，得到洁净的光学塑料基底材料；(2)清洁环境下，将步骤(1)中得到的洁净的光学塑料基底材料表面镀制均匀的减反膜，得到镀制了减反膜的光学塑料；(3)采用挥发性有机溶剂，对步骤(2)制得的镀制了减反膜的光学塑料进行气氛处理。
与现有技术相比，本发明在保持原本优异光学透过性能的同时，极大提高薄膜与基底界面的结合力，机械性能大幅提高，减反膜嵌入光学塑料表面的深度可以按需求灵活调控，镀制的减反膜可直接通过简单的操作方法在大面积基底上制备，易于实现低成本、大规模工业化生产。