基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法，使基板的背面朝上用擦洗部件等进行清洗的情况下，清洗液回绕使异物回绕到膜面侧，在膜面的清洗中无法去除干净的异物数量增加。
一种基板处理装置，利用处理液对基板的朝下的面进行处理，具有：支承部件，使基板的主为水平的状态下，从朝下的面侧支承基板；夹持部件，从相对的2个方向夹持被支承部件支承的基板的外缘部的一部分，保持基板；驱动单元，为使被夹持部件保持的基板从支承部件分离，使支承部件和夹持部件的至少一方在铅直方向移动；擦洗移动单元，在通过分离形成的空间内使擦洗部件与基板的朝下的面接触同时，使擦洗部件沿着基板的朝下的面移动；处理液供给单元，向基板的朝下的面供给处理液。

宅岛克宏

HOYA株式会社

日本东京都

基板处理装置和处理方法、光掩模清洗方法和制造方法，使基板的背面朝上用擦洗部件等进行清洗的情况下，清洗液回绕使异物回绕到膜面侧，在膜面的清洗中无法去除干净的异物数量增加。
一种基板处理装置，利用处理液对基板的朝下的面进行处理，具有：支承部件，使基板的主为水平的状态下，从朝下的面侧支承基板；夹持部件，从相对的2个方向夹持被支承部件支承的基板的外缘部的一部分，保持基板；驱动单元，为使被夹持部件保持的基板从支承部件分离，使支承部件和夹持部件的至少一方在铅直方向移动；擦洗移动单元，在通过分离形成的空间内使擦洗部件与基板的朝下的面接触同时，使擦洗部件沿着基板的朝下的面移动；处理液供给单元，向基板的朝下的面供给处理液。