本发明公开了一种化学机械平坦化设备，其结构包括电机、滑轨、伺服升降杆、外支架、减振支架、晶圆抛光装置、抛光液循环装置、操作台、支脚，本发明具有的效果：晶圆抛光装置和抛光液循环装置相配合，通过两者之间的结构设置，能够快速对注入研磨抛光盘内部的抛光液进行持续来回循环，过滤在抛光中混入抛光液中的金属颗粒，避免金属颗粒随抛光液在盘中运动，并且间歇性与晶圆接触，对抛光中的晶圆造成损伤，使晶圆的精度下降。

吴增福 黄建中

黄建中

510630 广东省广州市天河区龙洞西街北庆里8号201房

本发明公开了一种化学机械平坦化设备，其结构包括电机、滑轨、伺服升降杆、外支架、减振支架、晶圆抛光装置、抛光液循环装置、操作台、支脚，本发明具有的效果：晶圆抛光装置和抛光液循环装置相配合，通过两者之间的结构设置，能够快速对注入研磨抛光盘内部的抛光液进行持续来回循环，过滤在抛光中混入抛光液中的金属颗粒，避免金属颗粒随抛光液在盘中运动，并且间歇性与晶圆接触，对抛光中的晶圆造成损伤，使晶圆的精度下降。