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专利摘要

本发明公开一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,除尘装置包括除尘塔和连通件,所述除尘塔上连通设有第一除尘箱体,第一除尘箱体的一端与除尘塔连通,另一端设有水箱,水箱的上连通设有第二除尘箱,水箱上设有喷淋泵,喷淋泵的输入端插入水箱,输出端与除尘塔连通,连通件将第一除尘箱体、水箱和第二除尘箱连通在一起,除尘塔的下方设有过滤件。
本发明除尘装置将气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出,经过多次除尘后排出提高除尘的效率,减少对环境的污染,有利于生态环境建设;喷淋后的水经过连通件回流至水箱,形成用水循环,减少污水外排。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010369489.5
申请日
2020-05-03
公开日
2021-07-16
公开号
CN111496698B
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

朱雪玉

申请人

威海爱来福半导体科技有限公司

申请人地址

264200 山东省威海市高区火炬路213号创新创业基地C座5层

专利摘要

本发明公开一种半导体晶片喷砂加工除尘装置,除尘装置包括除尘塔和连通件,所述除尘塔上连通设有第一除尘箱体,第一除尘箱体的一端与除尘塔连通,另一端设有水箱,水箱的上连通设有第二除尘箱,水箱上设有喷淋泵,喷淋泵的输入端插入水箱,输出端与除尘塔连通,连通件将第一除尘箱体、水箱和第二除尘箱连通在一起,除尘塔的下方设有过滤件。
本发明除尘装置将气体通过水箱后经过第二除尘箱进行三次除尘后排出,经过多次除尘后排出提高除尘的效率,减少对环境的污染,有利于生态环境建设;喷淋后的水经过连通件回流至水箱,形成用水循环,减少污水外排。

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