本发明公开了一种非球面光学元件的恒压抛光装置，包括：用于设置工件并带动工件转动的旋转组件；用于与工件接触并对工件进行抛光的抛光件和用于设置抛光件的抛光轴；与旋转组件相连的第一直线驱动装置，用于驱动旋转组件直线移动，使工件沿抛光轴的轴向移动；与旋转组件和第一直线驱动装置均相连的运动控制器，用于控制旋转组件和第一直线驱动装置同步运动，第一直线驱动装置的输出位移与旋转组件的输出转角具有预设对应关系，使输出位移补偿旋转组件转动过程中工件型面各加工位置在抛光轴的轴向上的位置差。
该恒压抛光装置的加工精度高，可保证抛光去除量的稳定性，使抛光均匀可靠。
本发明还公开了一种非球面光学元件的恒压抛光方法。

卓少木 姚洪辉 朱相优 黄松明 张嘉荣 蔡晓誉

广东工业大学

510060 广东省广州市越秀区东风东路729号大院

本发明公开了一种非球面光学元件的恒压抛光装置，包括：用于设置工件并带动工件转动的旋转组件；用于与工件接触并对工件进行抛光的抛光件和用于设置抛光件的抛光轴；与旋转组件相连的第一直线驱动装置，用于驱动旋转组件直线移动，使工件沿抛光轴的轴向移动；与旋转组件和第一直线驱动装置均相连的运动控制器，用于控制旋转组件和第一直线驱动装置同步运动，第一直线驱动装置的输出位移与旋转组件的输出转角具有预设对应关系，使输出位移补偿旋转组件转动过程中工件型面各加工位置在抛光轴的轴向上的位置差。
该恒压抛光装置的加工精度高，可保证抛光去除量的稳定性，使抛光均匀可靠。
本发明还公开了一种非球面光学元件的恒压抛光方法。