目录

专利摘要

本发明提供一种磁流变抛光装置,包括底座,底座上通过伸缩设有工作台,工作台上设有旋转承载平台,承载平台上设有固定件,承载平台外围设有支架,底座上还设有电源;支架上设有导轨、第一滑轨、第二滑轨、抛光工具和磁流变液储存部,抛光工具包括支撑部,支撑部上设有磁流变液喷头,磁流变液喷头下设有抛光盘;磁流变液喷头与磁流变液储存部通过导料管连接;支撑部上还设有缠绕线圈的铁芯,线圈与电源电连接。
本发明装置操作简单方便且省时省力,抛光均匀且去除效率高;且便于检修与拆装;原料可回收利用,避免浪费,节约成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010041475.0
申请日
2020-01-15
公开日
2021-05-07
公开号
CN111168480B
主分类号
/B/B24/ 作业;运输
标准类别
磨削;抛光
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

王新海 马瑾 张永军

申请人

陕西国防工业职业技术学院

申请人地址

710300 陕西省西安市鄠邑区人民路8号

专利摘要

本发明提供一种磁流变抛光装置,包括底座,底座上通过伸缩设有工作台,工作台上设有旋转承载平台,承载平台上设有固定件,承载平台外围设有支架,底座上还设有电源;支架上设有导轨、第一滑轨、第二滑轨、抛光工具和磁流变液储存部,抛光工具包括支撑部,支撑部上设有磁流变液喷头,磁流变液喷头下设有抛光盘;磁流变液喷头与磁流变液储存部通过导料管连接;支撑部上还设有缠绕线圈的铁芯,线圈与电源电连接。
本发明装置操作简单方便且省时省力,抛光均匀且去除效率高;且便于检修与拆装;原料可回收利用,避免浪费,节约成本。

相似专利技术