本发明涉及一种与支架环联合使用的抛光垫、一种设计用来与支架环协作的抛光垫、以及一种制造和支架环一起使用的旋转抛光垫的方法。
本发明提供了一种化学机械抛光垫，该抛光垫具有环形抛光轨道和同心中心O。
所述抛光垫包括抛光层，该抛光层具有形成于其中的多个抛光垫凹槽。
该抛光垫被设计用来与支架(例如晶片支架)一起使用，所述支架包括具有多个支架凹槽的抛光环。
所述多个抛光垫凹槽中的每一个都具有与支架相容的凹槽形状，该凹槽形状被构造成提高抛光过程中位于支架环前缘上的支架环下面的抛光介质的传送。

G·P·米多尼

罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司

美国特拉华州

本发明涉及一种与支架环联合使用的抛光垫、一种设计用来与支架环协作的抛光垫、以及一种制造和支架环一起使用的旋转抛光垫的方法。
本发明提供了一种化学机械抛光垫，该抛光垫具有环形抛光轨道和同心中心O。
所述抛光垫包括抛光层，该抛光层具有形成于其中的多个抛光垫凹槽。
该抛光垫被设计用来与支架(例如晶片支架)一起使用，所述支架包括具有多个支架凹槽的抛光环。
所述多个抛光垫凹槽中的每一个都具有与支架相容的凹槽形状，该凹槽形状被构造成提高抛光过程中位于支架环前缘上的支架环下面的抛光介质的传送。