本发明提供一种带防污膜的基体，是在透明基体的主面依次具备防污膜、粘合层和保护膜且将所述粘合层和所述保护膜去除而使用的带防污膜的基体，具备所述粘合层和所述保护膜的状态下的所述防污膜的光学膜厚为10nm～50nm，去除所述粘合层和所述保护膜之后的所述防污膜的光学膜厚为3nm～30nm。

藤井健辅 宫村贤郎 桥本匡平

AGC株式会社

日本东京都

本发明提供一种带防污膜的基体，是在透明基体的主面依次具备防污膜、粘合层和保护膜且将所述粘合层和所述保护膜去除而使用的带防污膜的基体，具备所述粘合层和所述保护膜的状态下的所述防污膜的光学膜厚为10nm～50nm，去除所述粘合层和所述保护膜之后的所述防污膜的光学膜厚为3nm～30nm。