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专利摘要

本实用新型公开了一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块。
它具有基底和压板,基底上刻蚀有平行等间距的V形槽,基底和压板表面镀有薄膜,在基底的V形槽上放有微光纤,在微光纤上放有压板,基底与压板用紫外胶粘接成一体。
所述的微光纤的直径为5~25微米。
基底采用硅片,压板采用玻璃片。
薄膜为氟化镁薄膜,薄膜的厚度要大于0.3微米。
本实用新型的有益效果:1)实现了光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块;2)提高了激光照排系统中成像的精度;3)增加了焦深,降低了聚焦透镜的倍率和对胶片曝光时的位置精度的要求。

专利状态

基础信息

专利号
CN200620141896.6
申请日
2006-12-31
公开日
2008-02-06
公开号
CN201017077Y
主分类号
/B/B41/ 作业;运输
标准类别
印刷;排版机;打字机;模印机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
失效

发明人

侯昌伦 杨国光

申请人

浙江大学

申请人地址

310027浙江省杭州市浙大路38号

专利摘要

本实用新型公开了一种实现光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块。
它具有基底和压板,基底上刻蚀有平行等间距的V形槽,基底和压板表面镀有薄膜,在基底的V形槽上放有微光纤,在微光纤上放有压板,基底与压板用紫外胶粘接成一体。
所述的微光纤的直径为5~25微米。
基底采用硅片,压板采用玻璃片。
薄膜为氟化镁薄膜,薄膜的厚度要大于0.3微米。
本实用新型的有益效果:1)实现了光纤密排线阵列中光点密接的光纤密排模块;2)提高了激光照排系统中成像的精度;3)增加了焦深,降低了聚焦透镜的倍率和对胶片曝光时的位置精度的要求。

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