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专利摘要

本实用新型公开了一种基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置。
它依次放置有成像底片、聚焦透镜、光波导器件、半导体激光器。
所述的半导体激光器为32至128路半导体激光器,其工作波长范围在400纳米至1560纳米。
光波导器件具有基底,在基底上嵌有光波导。
基底的材料为玻璃或硅,玻璃的拆射率为1.5-1.8,工作波长400纳米-1000纳米,硅的折射率为>1.7,工作波长900纳米-1560纳米。
光波导的材料为玻璃或氧化硅,它们的拆射率比基底材料的折射率高0.01%-1%。
本实用新型体积小,控制简单,利用它的高速开关特性,不需要声光调制器装置,大大简化了光路结构和控制电路。
可以同时有几十路甚至上百路光路。
而且每路光相对独立调制,减少了光与光间的干扰,提高照排质量。

专利状态

基础信息

专利号
CN200620141591.5
申请日
2006-12-27
公开日
2007-12-19
公开号
CN200993684Y
主分类号
/B/B41/ 作业;运输
标准类别
印刷;排版机;打字机;模印机
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
失效

发明人

陆璇辉 徐弼军

申请人

浙江大学

申请人地址

310027浙江省杭州市浙大路38号

专利摘要

本实用新型公开了一种基于集成光波导的激光照排机的成像扫描装置。
它依次放置有成像底片、聚焦透镜、光波导器件、半导体激光器。
所述的半导体激光器为32至128路半导体激光器,其工作波长范围在400纳米至1560纳米。
光波导器件具有基底,在基底上嵌有光波导。
基底的材料为玻璃或硅,玻璃的拆射率为1.5-1.8,工作波长400纳米-1000纳米,硅的折射率为>1.7,工作波长900纳米-1560纳米。
光波导的材料为玻璃或氧化硅,它们的拆射率比基底材料的折射率高0.01%-1%。
本实用新型体积小,控制简单,利用它的高速开关特性,不需要声光调制器装置,大大简化了光路结构和控制电路。
可以同时有几十路甚至上百路光路。
而且每路光相对独立调制,减少了光与光间的干扰,提高照排质量。

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