公开了一种制造用于安全装置的图像图案的方法。
所述方法包括：提供一个金属化的衬底，所述金属化的衬底包括一种衬底材料，在所述衬底材料的第一表面上具有第一金属层，所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶；将第一光敏抗蚀剂层施加到所述第一金属层，所述第一光敏抗蚀剂层包括可热活化的交联剂，所述交联剂可操作以优先使选定类的官能团交联，在施加到所述第一金属层时所述官能团不存在于所述第一光敏抗蚀剂层中。
通过一个图案化的掩膜使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，其中所述图案化的掩膜包括第一图案元件和第二图案元件，在所述第一图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上不透明的，在所述第二图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上透明的，于是所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，导致在第二蚀刻剂物质中的可溶性增加，且未暴露的第一图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。
使所述第一光敏蚀刻剂层暴露于第一反应物物质，所述第一反应物物质与所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，以产生至少一个所述选定类的官能团，所述第一反应物物质基本上不与所述第一光敏抗蚀剂层的未暴露的第一图案元件反应。
使所述第一光敏抗蚀剂层中的交联剂活化，使得在暴露的第二图案元件中的至少一个所述选定类的官能团之间形成交联，由此所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性降低。
使所述第一光敏抗蚀剂层的第一图案元件和第二图案元件暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，于是所述第一光敏抗蚀剂层的新暴露的第一图案元件反应，导致对所述第二蚀刻剂物质的可溶性增加，所述第二图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。
将所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质施加到所述衬底，于是所述第一抗蚀剂层的第一图案元件和所述第一金属层的第一图案元件都被溶解，所述第一金属层的剩余的第二图案元件形成一个图像图案。

A·李斯特

德拉鲁国际有限公司

英国汉普郡

公开了一种制造用于安全装置的图像图案的方法。
所述方法包括：提供一个金属化的衬底，所述金属化的衬底包括一种衬底材料，在所述衬底材料的第一表面上具有第一金属层，所述第一金属层在第一蚀刻剂物质中可溶；将第一光敏抗蚀剂层施加到所述第一金属层，所述第一光敏抗蚀剂层包括可热活化的交联剂，所述交联剂可操作以优先使选定类的官能团交联，在施加到所述第一金属层时所述官能团不存在于所述第一光敏抗蚀剂层中。
通过一个图案化的掩膜使所述第一光敏抗蚀剂层暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，其中所述图案化的掩膜包括第一图案元件和第二图案元件，在所述第一图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上不透明的，在所述第二图案元件中，所述掩膜对所述辐射是基本上透明的，于是所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，导致在第二蚀刻剂物质中的可溶性增加，且未暴露的第一图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。
使所述第一光敏蚀刻剂层暴露于第一反应物物质，所述第一反应物物质与所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件反应，以产生至少一个所述选定类的官能团，所述第一反应物物质基本上不与所述第一光敏抗蚀剂层的未暴露的第一图案元件反应。
使所述第一光敏抗蚀剂层中的交联剂活化，使得在暴露的第二图案元件中的至少一个所述选定类的官能团之间形成交联，由此所述第一光敏抗蚀剂层的暴露的第二图案元件在所述第二蚀刻剂物质中的可溶性降低。
使所述第一光敏抗蚀剂层的第一图案元件和第二图案元件暴露于一个波长的辐射，所述抗蚀剂层响应于该波长的辐射，于是所述第一光敏抗蚀剂层的新暴露的第一图案元件反应，导致对所述第二蚀刻剂物质的可溶性增加，所述第二图案元件保持对于所述第二蚀刻剂物质相对不可溶。
将所述第一蚀刻剂物质和所述第二蚀刻剂物质施加到所述衬底，于是所述第一抗蚀剂层的第一图案元件和所述第一金属层的第一图案元件都被溶解，所述第一金属层的剩余的第二图案元件形成一个图像图案。