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专利摘要

本发明提供一种高得率地分离提纯砹‑211、并溶解于溶液的方法。
一种砹‑211的制造方法,包括:对铋照射α射线,在该铋中生成砹‑211的工序;及将该照射了α射线的铋,使用含有不活泼气体、O

专利状态

基础信息

专利号
CN201880078835.5
申请日
2018-12-07
公开日
2020-07-28
公开号
CN111465577A
主分类号
/C/C01/ 化学;冶金
标准类别
无机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

篠原厚 丰岛厚史 吉村崇 神田晃充

申请人

国立大学法人大阪大学

申请人地址

日本国大阪府吹田市山田丘1番1号

专利摘要

本发明提供一种高得率地分离提纯砹‑211、并溶解于溶液的方法。
一种砹‑211的制造方法,包括:对铋照射α射线,在该铋中生成砹‑211的工序;及将该照射了α射线的铋,使用含有不活泼气体、O

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