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专利摘要

提供一种具有3~4eV带隙的钡锗氧化物、其制备方法、烧结体及靶。
本发明的钡锗氧化物至少含有Ba(钡)、Ge(锗)和O(氧),包含由通式ABO

专利状态

基础信息

专利号
CN201980025044.0
申请日
2019-03-04
公开日
2020-11-17
公开号
CN111954642A
主分类号
/C/C01/ 化学;冶金
标准类别
无机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

游佐齐 宫川仁

申请人

国立研究开发法人物质·材料研究机构

申请人地址

日本茨城县

专利摘要

提供一种具有3~4eV带隙的钡锗氧化物、其制备方法、烧结体及靶。
本发明的钡锗氧化物至少含有Ba(钡)、Ge(锗)和O(氧),包含由通式ABO

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