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专利摘要

本发明公开了一种用于神光Ⅱ高功率激光装置的氘气提纯装置,该氘气提纯装置包括氘气进入系统,氘气抽出系统和真空机组,氘气进入系统包括氘气源、靶室外进气管道、双向截止阀I、双向截止阀Ⅱ、靶室内通气管道、靶体,氘气抽出系统包括靶室内通气管道、双向截止阀Ⅲ、靶室外抽气管道,真空机组包括外壳,外壳中设有上层腔室和下层腔室,在下层腔室中设有机械泵、上层腔室中设有分子泵,外壳上端面上设有真空腔,本发明完成一次置换过程(1次充气和抽气)一般可控制在10分钟内,根据实际需要还可以降低,本发明可以将氘气总体置换时间(6‑7次的充气和抽气)控制在1小时以内,从时间上看,大大降低了实验成本。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711431283.5
申请日
2017-12-26
公开日
2019-09-10
公开号
CN108163810B
主分类号
/C/C01/ 化学;冶金
标准类别
无机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
授权

发明人

贾果 华能 舒桦 叶君建 谢志勇 方智恒 孟祥富 黄秀光 熊俊 韩斌

申请人

中国工程物理研究院上海激光等离子体研究所

申请人地址

201899 上海市嘉定区陈家山路1129号

专利摘要

本发明公开了一种用于神光Ⅱ高功率激光装置的氘气提纯装置,该氘气提纯装置包括氘气进入系统,氘气抽出系统和真空机组,氘气进入系统包括氘气源、靶室外进气管道、双向截止阀I、双向截止阀Ⅱ、靶室内通气管道、靶体,氘气抽出系统包括靶室内通气管道、双向截止阀Ⅲ、靶室外抽气管道,真空机组包括外壳,外壳中设有上层腔室和下层腔室,在下层腔室中设有机械泵、上层腔室中设有分子泵,外壳上端面上设有真空腔,本发明完成一次置换过程(1次充气和抽气)一般可控制在10分钟内,根据实际需要还可以降低,本发明可以将氘气总体置换时间(6‑7次的充气和抽气)控制在1小时以内,从时间上看,大大降低了实验成本。

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