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专利摘要

一种纳米晶体的制造方法,其具备对浸渍在水中的金属材料的表面照射光、在所述表面上形成纳米晶体的光照射工序,金属材料含有铁,纳米晶体含有铁氧化物以及铁氢氧化物中的至少任一种,光的光谱中,强度最大的波长为360nm以上且小于620nm。

专利状态

基础信息

专利号
CN201780052370.1
申请日
2017-08-25
公开日
2019-04-16
公开号
CN109641760A
主分类号
/C/C01/ 化学;冶金
标准类别
无机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

足立修一郎 北川雅规 渡边精一 张丽华 冲中宪之 高井大

申请人

日立化成株式会社 国立大学法人北海道大学

申请人地址

日本东京

专利摘要

一种纳米晶体的制造方法,其具备对浸渍在水中的金属材料的表面照射光、在所述表面上形成纳米晶体的光照射工序,金属材料含有铁,纳米晶体含有铁氧化物以及铁氢氧化物中的至少任一种,光的光谱中,强度最大的波长为360nm以上且小于620nm。

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