本发明涉及抑制在与液体介质接触的表面上垢累积的方法，更具体地，提供了工艺溶液分配系统以及其用以计算分配用的垢控制试剂的量的用途。
该工艺溶液分配系统包括泵，其布置并且适配为响应于测得的或计算的温度将垢控制试剂分配到工艺溶液分配系统的至少一部分；排放管，其与泵流体连通并且暴露于天气和直射阳光；任选的管道，其流体连通泵和排放管；位于泵的1000英尺内的管道段，所述管道段包含与排放管相同的材料，所述管道段的特征在于不与泵或排放管流体连通；附着于管道段的传感器，所述传感器适配于测量或计算测得的或计算的温度；以及任选的至少一个另外的传感器。

金·R·科莱曼 罗尔夫·阿恩特

艺康美国股份有限公司

美国明尼苏达州

本发明涉及抑制在与液体介质接触的表面上垢累积的方法，更具体地，提供了工艺溶液分配系统以及其用以计算分配用的垢控制试剂的量的用途。
该工艺溶液分配系统包括泵，其布置并且适配为响应于测得的或计算的温度将垢控制试剂分配到工艺溶液分配系统的至少一部分；排放管，其与泵流体连通并且暴露于天气和直射阳光；任选的管道，其流体连通泵和排放管；位于泵的1000英尺内的管道段，所述管道段包含与排放管相同的材料，所述管道段的特征在于不与泵或排放管流体连通；附着于管道段的传感器，所述传感器适配于测量或计算测得的或计算的温度；以及任选的至少一个另外的传感器。