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专利摘要

本发明涉及阻垢除垢技术领域,提供了石膏磁晶种阻垢除垢系统以及蒸发结晶系统,其中,石膏磁晶种阻垢除垢系统包括晶种循环子系统,所述晶种循环子系统通过管路与待处理设备连接形成晶种循环回路,所述晶种循环子系统包括磁场发生装置,所述磁场发生装置用于磁化流过所述磁场发生装置的石膏晶种以形成石膏磁晶种。
蒸发结晶系统包括结晶器和所述的晶种循环子系统,所述晶种循环子系统通过管路与所述结晶器连接形成晶种循环回路。
本发明通过磁化晶种对待处理设备进行阻垢除垢,磁化晶种在待处理设备与晶种循环子系统之间循环流动,稳定保持晶种的磁化状态,增强阻垢除垢效果。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910538475.9
申请日
2019-06-20
公开日
2019-08-27
公开号
CN110171859A
主分类号
/C/C02/ 化学;冶金
标准类别
水、废水、污水或污泥的处理
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

张化福 杨俊玲 张振涛 张钰 董艳华 越云凯 张鹏

申请人

中国科学院理化技术研究所

申请人地址

100190 北京市海淀区中关村东路29号

专利摘要

本发明涉及阻垢除垢技术领域,提供了石膏磁晶种阻垢除垢系统以及蒸发结晶系统,其中,石膏磁晶种阻垢除垢系统包括晶种循环子系统,所述晶种循环子系统通过管路与待处理设备连接形成晶种循环回路,所述晶种循环子系统包括磁场发生装置,所述磁场发生装置用于磁化流过所述磁场发生装置的石膏晶种以形成石膏磁晶种。
蒸发结晶系统包括结晶器和所述的晶种循环子系统,所述晶种循环子系统通过管路与所述结晶器连接形成晶种循环回路。
本发明通过磁化晶种对待处理设备进行阻垢除垢,磁化晶种在待处理设备与晶种循环子系统之间循环流动,稳定保持晶种的磁化状态,增强阻垢除垢效果。

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