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专利摘要

本发明公开了一种用于处理地表径流和浅层地下水的反应格栅的制备工艺,其中,所述制备工艺包括以下步骤:步骤1、挖掘填充坑,并在填充坑的地上的左右两侧浇筑混凝土;步骤2、在填充坑底部铺设防水层,并在填充坑内架设取样井;步骤3、进行格栅主体(2)的填充以及前端缓冲区(1)和后端缓冲区(3)的堆砌;步骤4、进行测试,然后封顶。
有本发明所述制备工艺制得的反应格栅结构牢固,可实现地表径流和浅层地下水的处理,同时采用特殊水处理剂,赋予格栅优良的水处理性能,实现水中重金属的有效脱除。

专利状态

基础信息

专利号
CN201610695199.3
申请日
2016-08-19
公开日
2018-03-06
公开号
CN107758757A
主分类号
/C/C02/ 化学;冶金
标准类别
水、废水、污水或污泥的处理
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

廖立兵 吕国诚 梅乐夫 魏耀祖

申请人

中国地质大学(北京)

申请人地址

100083 北京市海淀区学院路29号

专利摘要

本发明公开了一种用于处理地表径流和浅层地下水的反应格栅的制备工艺,其中,所述制备工艺包括以下步骤:步骤1、挖掘填充坑,并在填充坑的地上的左右两侧浇筑混凝土;步骤2、在填充坑底部铺设防水层,并在填充坑内架设取样井;步骤3、进行格栅主体(2)的填充以及前端缓冲区(1)和后端缓冲区(3)的堆砌;步骤4、进行测试,然后封顶。
有本发明所述制备工艺制得的反应格栅结构牢固,可实现地表径流和浅层地下水的处理,同时采用特殊水处理剂,赋予格栅优良的水处理性能,实现水中重金属的有效脱除。

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