目录

专利摘要

本实用新型涉及半导体研磨水处理技术领域,公开一种新型半导体研磨废水回收装置。
半导体研磨废水经过小型过滤器注入混合水箱,混合水箱上方布置搅拌器,水泵进水口与混合水箱连接,水泵出口与净化设备连接,然后净化设备出水端与手动球阀连接,达标回收到用水点。
本实用新型提供的新型半导体研磨废水回收装置是一种节省占地面积,无二次污染,产水水质优质,自动化程度高,产品质量均匀及稳定的设备。

专利状态

基础信息

专利号
CN202020621493.1
申请日
2020-04-23
公开日
2021-01-29
公开号
CN212425613U
主分类号
/C/C02/ 化学;冶金
标准类别
水、废水、污水或污泥的处理
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

刘洋 赵衍平 王硕 刘超 赵克宇

申请人

天津洛克环境科技有限公司

申请人地址

300467 天津市滨海新区生态城动漫中路126号动漫大厦C区二层209(TG第668号)

专利摘要

本实用新型涉及半导体研磨水处理技术领域,公开一种新型半导体研磨废水回收装置。
半导体研磨废水经过小型过滤器注入混合水箱,混合水箱上方布置搅拌器,水泵进水口与混合水箱连接,水泵出口与净化设备连接,然后净化设备出水端与手动球阀连接,达标回收到用水点。
本实用新型提供的新型半导体研磨废水回收装置是一种节省占地面积,无二次污染,产水水质优质,自动化程度高,产品质量均匀及稳定的设备。

相似专利技术