目录

专利摘要

本发明公开了一种带有反馈功能的污水处理装置,包括处理壳体以及设置于所述处理壳体中的处理腔,所述处理腔用于第一次处理污水,所述处理腔底端固定设有抓取壳体,本装置中当污水经过第一次处理通过水管排放时,水管中设置有相应的传感器检测处理后的污水是否达标,若未达标则设置在水管中的引流盖板将污水引流至一个位置进行第二次处理,处理好后再进行正常排放,当水管中的水达标后引流盖板自动升起,水就能正常排放,零件之间通过机械传动具有较高的可靠性,此外当需要大量排放时本装置能将检测处理设备从水管中取出防止阻碍水的快速排放。

专利状态

基础信息

专利号
CN202011200772.1
申请日
2020-11-02
公开日
2020-12-29
公开号
CN112142138A
主分类号
/C/C02/ 化学;冶金
标准类别
水、废水、污水或污泥的处理
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

谷金童

申请人

杭州瓦兴智能科技有限公司

申请人地址

310000 浙江省杭州市滨江区西兴街道江陵路336号鑫都汇大厦1幢430室-2

专利摘要

本发明公开了一种带有反馈功能的污水处理装置,包括处理壳体以及设置于所述处理壳体中的处理腔,所述处理腔用于第一次处理污水,所述处理腔底端固定设有抓取壳体,本装置中当污水经过第一次处理通过水管排放时,水管中设置有相应的传感器检测处理后的污水是否达标,若未达标则设置在水管中的引流盖板将污水引流至一个位置进行第二次处理,处理好后再进行正常排放,当水管中的水达标后引流盖板自动升起,水就能正常排放,零件之间通过机械传动具有较高的可靠性,此外当需要大量排放时本装置能将检测处理设备从水管中取出防止阻碍水的快速排放。

相似专利技术