揭示了防眩光基材和包含其的制品的实施方式。
在一个或多个实施方式中，防眩光基材包括织构化表面，其具有多个平均横截面尺寸小于或等于约30微米的特征。
基材或制品展现出小于或等于10％的透射雾度、小于或等于约7％或者小于或等于6％的PPDr、以及小于或等于约80的DOI。
还揭示了用于形成防眩光基材的方法，包括用具有低水溶解度的蚀刻剂来蚀刻基材表面以提供经蚀刻的表面，以及去除一部分的经蚀刻的表面。
方法包括在对表面进行蚀刻的同时，在表面上形成多个不可溶晶体(例如，K

B·A·巴泽莫 金宇辉 侯军

康宁股份有限公司

美国纽约州

揭示了防眩光基材和包含其的制品的实施方式。
在一个或多个实施方式中，防眩光基材包括织构化表面，其具有多个平均横截面尺寸小于或等于约30微米的特征。
基材或制品展现出小于或等于10％的透射雾度、小于或等于约7％或者小于或等于6％的PPDr、以及小于或等于约80的DOI。
还揭示了用于形成防眩光基材的方法，包括用具有低水溶解度的蚀刻剂来蚀刻基材表面以提供经蚀刻的表面，以及去除一部分的经蚀刻的表面。
方法包括在对表面进行蚀刻的同时，在表面上形成多个不可溶晶体(例如，K