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专利摘要

本发明公开了一种非密排二氧化硅环纳米阵列及其制备方法,包括:对石英片进行清洗,并对清洗后的洁净石英片进行烘干,然后放于紫外臭氧清洗机中进行辐照,从而制得表面亲水的洁净石英片;采用气液界面自组装方法,在洁净石英片表面制备出紧密排列的单层聚苯乙烯胶体球阵列;以石英片上的单层聚苯乙烯胶体球阵列为模板,采用磁控溅射沉积方法在所述模板的表面沉积一层银膜;对表面沉积有银膜的单层聚苯乙烯胶体球阵列进行热处理,从而制得石英基底的银纳米颗粒阵列;将石英基底的银纳米颗粒阵列浸泡于硝酸中,以去除银纳米颗粒,从而制得非密排二氧化硅环纳米阵列。
本发明不仅纳米阵列的机械强度和牢固度都很高,而且制备工艺简单、成本低廉、对设备要求低。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910823256.5
申请日
2019-09-02
公开日
2019-12-06
公开号
CN110540372A
主分类号
/C/C03/ 化学;冶金
标准类别
玻璃;矿棉或渣棉
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

刘广强 徐望胜 张鹏 蔡伟平

申请人

中国科学院合肥物质科学研究院

申请人地址

230031 安徽省合肥市蜀山区蜀山湖路350号

专利摘要

本发明公开了一种非密排二氧化硅环纳米阵列及其制备方法,包括:对石英片进行清洗,并对清洗后的洁净石英片进行烘干,然后放于紫外臭氧清洗机中进行辐照,从而制得表面亲水的洁净石英片;采用气液界面自组装方法,在洁净石英片表面制备出紧密排列的单层聚苯乙烯胶体球阵列;以石英片上的单层聚苯乙烯胶体球阵列为模板,采用磁控溅射沉积方法在所述模板的表面沉积一层银膜;对表面沉积有银膜的单层聚苯乙烯胶体球阵列进行热处理,从而制得石英基底的银纳米颗粒阵列;将石英基底的银纳米颗粒阵列浸泡于硝酸中,以去除银纳米颗粒,从而制得非密排二氧化硅环纳米阵列。
本发明不仅纳米阵列的机械强度和牢固度都很高,而且制备工艺简单、成本低廉、对设备要求低。

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