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专利摘要

本发明提供了一种微光大理石抛光瓷片的制造方法,包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品。
本发明利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成的凹陷大理石纹理,因釉面其本身是亚光的,在抛光后,抛面光泽强,凹陷大理石纹保留了原有板面亚光效果,抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差,对比之下凹陷大理石纹呈微光状。
本发明相比原有的在有光透明釉上喷印下陷墨水形成的大理石纹效果,更接近于天然大理石细裂纹效果,大理石纹理做得更加细腻;合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度,防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010799728.0
申请日
2020-08-11
公开日
2020-11-17
公开号
CN111943727A
主分类号
/C/C04/ 化学;冶金
标准类别
水泥;混凝土;人造石;陶瓷;耐火材料
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

叶德林 韦前 李辉 黄诗程 谢石长 徐童

申请人

佛山市三水新明珠建陶工业有限公司 广东新明珠陶瓷集团有限公司

申请人地址

528131 广东省佛山市三水区白坭镇中部工业开发区

专利摘要

本发明提供了一种微光大理石抛光瓷片的制造方法,包括步骤素坯经淋底釉→淋柔光面釉→喷墨印花与喷印剥开墨水→淋亚光透明釉→烧成→抛光→成品。
本发明利用剥开墨水剥开亚光透明釉形成的凹陷大理石纹理,因釉面其本身是亚光的,在抛光后,抛面光泽强,凹陷大理石纹保留了原有板面亚光效果,抛面与凹陷大理石纹形成较强的光泽差,对比之下凹陷大理石纹呈微光状。
本发明相比原有的在有光透明釉上喷印下陷墨水形成的大理石纹效果,更接近于天然大理石细裂纹效果,大理石纹理做得更加细腻;合理调配柔光面釉与亚光透明釉的烧成温度、光泽度,防止了凹陷大理石纹理藏蜡而导致的吸污问题。

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