本发明公开了一种发射药表面残留硫脱除方法,涉及发射药技术领域,其技术方案要点:具体包括以下步骤:步骤1):采用超声清洗机对某表面含硫发射药进行超声清洗,脱除发射药表面残留的水溶性硫化物;步骤2):脱除发射药表面残留的单质硫,将步骤1)中脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内进行搅拌反应,并控制搅拌反应的温度和时间;步骤3):对经过步骤1)和步骤2)处理的发射药进行硫元素含量检测。
本技术方案利用简单的物理化学方法,能够实现发射药表面残留硫的脱除,从而大幅度降低发射药中硫元素的含量,有效地抑制发射药在射击过程中产生的刺激性气味。
肖忠良 李世影 丁亚军 梁昊 赵先正 陶忠安
南京理工大学
210094 江苏省南京市孝陵卫街200号
本发明公开了一种发射药表面残留硫脱除方法,涉及发射药技术领域,其技术方案要点:具体包括以下步骤:步骤1):采用超声清洗机对某表面含硫发射药进行超声清洗,脱除发射药表面残留的水溶性硫化物;步骤2):脱除发射药表面残留的单质硫,将步骤1)中脱除表面残留的水溶性硫化物的发射药和500ml反应试剂溶液加入带有搅拌装置的三口烧瓶内进行搅拌反应,并控制搅拌反应的温度和时间;步骤3):对经过步骤1)和步骤2)处理的发射药进行硫元素含量检测。
本技术方案利用简单的物理化学方法,能够实现发射药表面残留硫的脱除,从而大幅度降低发射药中硫元素的含量,有效地抑制发射药在射击过程中产生的刺激性气味。