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专利摘要

本发明的课题在于提供一种能够抑制立体异构体的副产,并能够通过简单的操作分离异构体的二环己烷二羧酸二酯的制造方法及二环己烷二羧酸的制造方法。
本发明的二环己烷二羧酸的制造方法为包括如下工序的二环己烷二羧酸二酯的制造方法:在镍催化剂及还原剂的存在下使由下述式(1)表示的化合物进行反应而获得由下述式(2)表示的二环己烷二羧酸二酯。

专利状态

基础信息

专利号
CN201980039443.2
申请日
2019-06-07
公开日
2021-01-26
公开号
CN112272661A
主分类号
/C/C07/ 化学;冶金
标准类别
有机化学
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

纲和宏 高桥基将

申请人

富士胶片株式会社

申请人地址

日本东京

专利摘要

本发明的课题在于提供一种能够抑制立体异构体的副产,并能够通过简单的操作分离异构体的二环己烷二羧酸二酯的制造方法及二环己烷二羧酸的制造方法。
本发明的二环己烷二羧酸的制造方法为包括如下工序的二环己烷二羧酸二酯的制造方法:在镍催化剂及还原剂的存在下使由下述式(1)表示的化合物进行反应而获得由下述式(2)表示的二环己烷二羧酸二酯。

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