目录

专利摘要

本发明公开了一种用于12英寸硅晶圆的负型PSPI树脂及其制备方法与应用。
它包括如下组分制成:感光性聚酰亚胺前驱体树脂、溶剂、光固化单体和光固化引发剂。
它的制备方法,包括如下步骤:(1)将所述感光性聚酰亚胺前驱体树脂和所述溶剂混合,在黄光区和氮气保护下搅拌溶解形成均相溶液;(2)在所述均相溶液中加入所述光固化单体、所述光固化引发剂和/或所述其它组份混合,形成均相溶液后,添加所述溶剂,调整溶液体系粘度,过滤,即得到所述负型PSPI树脂。
本发明负型PSPI树脂组合物溶液具有优良的储存稳定性和光刻工艺性,低温固化的树脂薄膜具有优良的综合力学性能、耐湿热性、耐化学浸蚀性和铜面粘结性,应用于制备12英寸晶圆表面多层互连电路中。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010263769.8
申请日
2020-04-07
公开日
2020-08-11
公开号
CN111522200A
主分类号
/C/C08/ 化学;冶金
标准类别
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

杨士勇 袁莉莉 范圣男 贾斌 左立辉 彭剑鹏

申请人

中国科学院化学研究所 明泉集团股份有限公司

申请人地址

100190 北京市海淀区中关村北一街2号

专利摘要

本发明公开了一种用于12英寸硅晶圆的负型PSPI树脂及其制备方法与应用。
它包括如下组分制成:感光性聚酰亚胺前驱体树脂、溶剂、光固化单体和光固化引发剂。
它的制备方法,包括如下步骤:(1)将所述感光性聚酰亚胺前驱体树脂和所述溶剂混合,在黄光区和氮气保护下搅拌溶解形成均相溶液;(2)在所述均相溶液中加入所述光固化单体、所述光固化引发剂和/或所述其它组份混合,形成均相溶液后,添加所述溶剂,调整溶液体系粘度,过滤,即得到所述负型PSPI树脂。
本发明负型PSPI树脂组合物溶液具有优良的储存稳定性和光刻工艺性,低温固化的树脂薄膜具有优良的综合力学性能、耐湿热性、耐化学浸蚀性和铜面粘结性,应用于制备12英寸晶圆表面多层互连电路中。

相似专利技术