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专利摘要

本发明属于纳米杂化分子合成技术领域,公开了一种苯基T10笼型倍半硅氧烷及其采用T4为模板的模板生长法的合成方法。
本发明方法包括以下步骤:(1)苯基T4钠盐的制备:将苯基硅烷单体的有机溶液、含有氢氧化钠和水的有机溶液混合,旋蒸除去溶剂,得到苯基T4钠盐;(2)苯基T10笼型倍半硅氧烷的合成:将1摩尔份苯基T4钠盐、2~8摩尔份苯基硅烷单体溶于溶剂中,加入催化量的催化剂,反应,得到苯基T10笼型倍半硅氧烷。
本发明反应过程简单,合成所得的T10,作为添加剂使用在保留T8高热稳定性、高力学强度、低介电损耗的前提下,在常用溶剂中有优良溶解性。
本发明的成功实施,对以后合成双官能CSQ有重要启示。

专利状态

基础信息

专利号
CN201711381970.0
申请日
2017-12-20
公开日
2021-07-23
公开号
CN108084438B
主分类号
/C/C08/ 化学;冶金
标准类别
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

许凯 桂雪峰 梁晟源 邢玉秀 高树曦 孙龙凤 陈鸣才

申请人

中科院广州化学有限公司 中国科学院大学

申请人地址

510650 广东省广州市天河区兴科路368号

专利摘要

本发明属于纳米杂化分子合成技术领域,公开了一种苯基T10笼型倍半硅氧烷及其采用T4为模板的模板生长法的合成方法。
本发明方法包括以下步骤:(1)苯基T4钠盐的制备:将苯基硅烷单体的有机溶液、含有氢氧化钠和水的有机溶液混合,旋蒸除去溶剂,得到苯基T4钠盐;(2)苯基T10笼型倍半硅氧烷的合成:将1摩尔份苯基T4钠盐、2~8摩尔份苯基硅烷单体溶于溶剂中,加入催化量的催化剂,反应,得到苯基T10笼型倍半硅氧烷。
本发明反应过程简单,合成所得的T10,作为添加剂使用在保留T8高热稳定性、高力学强度、低介电损耗的前提下,在常用溶剂中有优良溶解性。
本发明的成功实施,对以后合成双官能CSQ有重要启示。

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