一种含有大共轭二吡咯烯荧光染料及其合成方法 下载此专利PDF版本

CN201910345087.9 染料 荧光 吡咯 合成 含有

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专利摘要

本发明属于有机化工技术领域，特别是一种含有大共轭结构的二吡咯烯染料，所述化学结构式为：

专利状态

  1. 申请日
  2. 公开日
  3. 有效专利

基础信息

专利号
CN201910345087.9
申请日
2019-04-26
公开日
2021-02-02
公开号
CN110016239B
主分类号
/C/C09/ 化学；冶金
标准类别
染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

张诺诺 张婷婷 晏佳莹 刘湘 郑开波 李德江

申请人

三峡大学

申请人地址

443002 湖北省宜昌市西陵区大学路8号

专利摘要

本发明属于有机化工技术领域，特别是一种含有大共轭结构的二吡咯烯染料，所述化学结构式为：

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