目录

专利摘要

本发明涉及辐射制冷领域,公开了一种二氧化硅包覆亚磷酸镁辐射制冷材料及其制备方法。
该方法包括:将亚磷酸镁粉体加入硅酸钠溶液中,混匀,得到混合液;在搅拌状态下调节混合液的pH至8.0‑9.0,进行水解反应,过滤,洗涤,干燥,得到二氧化硅包覆亚磷酸镁辐射制冷材料。
本发明以在中红外波段发射率较高的亚磷酸镁粉体为主要原料,将适量粉体加入浓度一定的硅酸钠溶液中进行充分搅拌分散,然后调节溶液的pH值使硅酸钠水解,水解产生的二氧化硅不断包覆在亚磷酸镁粉体的表面形成包覆层,反应完毕后进行水洗烘干,获得了最终的包覆产物。
本发明不但对原料形成了保护层,而且同时提高了原料的红外发射率,有利于提高材料的辐射制冷性能。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010204947.X
申请日
2020-03-22
公开日
2021-06-08
公开号
CN111394069B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

王俊峰 张志杰 钟明峰

申请人

华南理工大学

申请人地址

510640 广东省广州市天河区五山路381号

专利摘要

本发明涉及辐射制冷领域,公开了一种二氧化硅包覆亚磷酸镁辐射制冷材料及其制备方法。
该方法包括:将亚磷酸镁粉体加入硅酸钠溶液中,混匀,得到混合液;在搅拌状态下调节混合液的pH至8.0‑9.0,进行水解反应,过滤,洗涤,干燥,得到二氧化硅包覆亚磷酸镁辐射制冷材料。
本发明以在中红外波段发射率较高的亚磷酸镁粉体为主要原料,将适量粉体加入浓度一定的硅酸钠溶液中进行充分搅拌分散,然后调节溶液的pH值使硅酸钠水解,水解产生的二氧化硅不断包覆在亚磷酸镁粉体的表面形成包覆层,反应完毕后进行水洗烘干,获得了最终的包覆产物。
本发明不但对原料形成了保护层,而且同时提高了原料的红外发射率,有利于提高材料的辐射制冷性能。

相似专利技术