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专利摘要

本发明公开了一种自分层放射性污染控制与清除材料及制备方法和应用,该材料包括水性基础成膜剂、微球发泡剂、屏蔽粉体、触变剂、分散剂、润湿剂和消泡剂;通过向基础成膜剂中物理混入轻量化屏蔽功能组合物来解决屏蔽组份易沉降的技术难题;同时,基础成膜剂与轻量化组合物的密度差也进一步促进材料自分层并富集在涂膜的上层,不占用下层去污材料的颜料体积含量,解决了添加填料削弱去污效果的技术难题。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010612593.2
申请日
2020-06-30
公开日
2020-11-03
公开号
CN111876039A
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
审查中-实审

发明人

王静 郑力 李坚 赵莉

申请人

中国人民解放军军事科学院国防工程研究院工程防护研究所

申请人地址

471000 河南省洛阳市洛龙区龙门西山路3号

专利摘要

本发明公开了一种自分层放射性污染控制与清除材料及制备方法和应用,该材料包括水性基础成膜剂、微球发泡剂、屏蔽粉体、触变剂、分散剂、润湿剂和消泡剂;通过向基础成膜剂中物理混入轻量化屏蔽功能组合物来解决屏蔽组份易沉降的技术难题;同时,基础成膜剂与轻量化组合物的密度差也进一步促进材料自分层并富集在涂膜的上层,不占用下层去污材料的颜料体积含量,解决了添加填料削弱去污效果的技术难题。

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