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专利摘要

本发明公开了一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法,包括如下步骤:S01:制备纳米氧化硅溶胶;S02:制备无机聚电解质聚硅酸镁铁铝锌;S03:在25℃及搅拌条件下将所述聚硅酸镁铁铝锌逐滴加入到所述纳米二氧化硅溶胶中,并连续搅拌6小时;经过离心和过滤得到无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒溶液。
本发明提供的一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法,可以提高蓝宝石基片的材料去除速率,降低表面粗糙度。

专利状态

基础信息

专利号
CN202010192315.6
申请日
2020-03-18
公开日
2021-07-16
公开号
CN111253910B
主分类号
/C/C09/ 化学;冶金
标准类别
染料;涂料;抛光剂;天然树脂;黏合剂;其他类目不包含的组合物;其他类目不包含的材料的应用
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

雷红 王天仙

申请人

昆山捷纳电子材料有限公司

申请人地址

215300 江苏省苏州市昆山市经济开发区春旭路258号

专利摘要

本发明公开了一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法,包括如下步骤:S01:制备纳米氧化硅溶胶;S02:制备无机聚电解质聚硅酸镁铁铝锌;S03:在25℃及搅拌条件下将所述聚硅酸镁铁铝锌逐滴加入到所述纳米二氧化硅溶胶中,并连续搅拌6小时;经过离心和过滤得到无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒溶液。
本发明提供的一种无机聚电解质‑氧化硅复合抛光磨粒的制备方法,可以提高蓝宝石基片的材料去除速率,降低表面粗糙度。

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