本发明公开了一种制备大粒径硅溶胶的方法，包括以下步骤：将浓度为10wt％的晶种溶液加入反应釜，加入碱溶液使得溶液pH值控制在11.2至11.8，将温度控制在100‑120℃，加热25至30h后，当pH值小于10.3时，加入碱溶液并将pH控制维持在9.8至10.3，直到得到粒径为100‑120nm的硅溶胶溶液，同时通入浓度为10wt％的晶种溶液使得液面维持不变。
硅溶胶合成过程中pH值的控制，对合成后的硅溶胶的抛光速率影响至关重要，将pH值控制在9.8‑10.3时，其抛光速率比不控制pH的工艺提高22.3％，抛光速率比pH控制在9.3‑9.8的工艺提高34.5％，因此，控制pH在9.8‑10.3能有效提高其抛光速率。

王军强

河北宇天昊远纳米材料有限公司

050000 河北省石家庄市经济技术开发区丰产路68号

本发明公开了一种制备大粒径硅溶胶的方法，包括以下步骤：将浓度为10wt％的晶种溶液加入反应釜，加入碱溶液使得溶液pH值控制在11.2至11.8，将温度控制在100‑120℃，加热25至30h后，当pH值小于10.3时，加入碱溶液并将pH控制维持在9.8至10.3，直到得到粒径为100‑120nm的硅溶胶溶液，同时通入浓度为10wt％的晶种溶液使得液面维持不变。
硅溶胶合成过程中pH值的控制，对合成后的硅溶胶的抛光速率影响至关重要，将pH值控制在9.8‑10.3时，其抛光速率比不控制pH的工艺提高22.3％，抛光速率比pH控制在9.3‑9.8的工艺提高34.5％，因此，控制pH在9.8‑10.3能有效提高其抛光速率。