本发明公开了一种抛光后陶瓷清洗剂、抛光后陶瓷清洗工艺及其应用，涉及陶瓷抛光清洗技术领域。
抛光后陶瓷清洗剂按质量百分含量包括如下组分：羧基酸类络合剂15～20％，多元醇醚类有机溶剂10～20％，非离子表面活性剂8～25％，阴离子表面活性剂0.5～1％，其余为水。
该清洗工艺使用上述清洗剂对抛光后陶瓷进行清洗。
本发明缓解了现有的碱性清洗剂对陶瓷产品残留的抛光蜡、油脂洗不干净，造成陶瓷表面有白点、脏污等不良问题，且清洗剂本身仍存在不安全环保、使用后不易水洗等问题。
本发明清洗剂不仅能够有效去除陶瓷上的抛光蜡，包括蜡脂和金属氧化物，也能有效去除陶瓷上的脏污和油脂，清洗效果好，清洗后的陶瓷光亮洁净、无白点。

饶桥兵 蔡杰勇

蓝思科技(长沙)有限公司

410100 湖南省长沙市长沙县长沙经济技术开发区漓湘路99号

本发明公开了一种抛光后陶瓷清洗剂、抛光后陶瓷清洗工艺及其应用，涉及陶瓷抛光清洗技术领域。
抛光后陶瓷清洗剂按质量百分含量包括如下组分：羧基酸类络合剂15～20％，多元醇醚类有机溶剂10～20％，非离子表面活性剂8～25％，阴离子表面活性剂0.5～1％，其余为水。
该清洗工艺使用上述清洗剂对抛光后陶瓷进行清洗。
本发明缓解了现有的碱性清洗剂对陶瓷产品残留的抛光蜡、油脂洗不干净，造成陶瓷表面有白点、脏污等不良问题，且清洗剂本身仍存在不安全环保、使用后不易水洗等问题。
本发明清洗剂不仅能够有效去除陶瓷上的抛光蜡，包括蜡脂和金属氧化物，也能有效去除陶瓷上的脏污和油脂，清洗效果好，清洗后的陶瓷光亮洁净、无白点。