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专利摘要

本发明公开了一种可擦除贵金属的基底及其应用,该基底为两层结构,其下层为衬底(a),上层的聚多酚类物质涂层(b)修饰在衬底上。
该基底应用于擦除回收贵金属,包括以下步骤:1)在可擦除贵金属的基底表面制备贵金属涂层(c);2)将具有贵金属涂层(c)的基底浸泡到回收溶液中,反应一段时间后,贵金属涂层(c)可自发擦除;3)在反应后的回收溶液中回收贵金属。
上述基底可在常温常压、无添加酸碱的情况下实现对贵金属涂层的擦除,实现对贵金属的回收;该应用方法反应条件温和,可用于任意不溶于水的材料表面,扩展了该方法的通用性,很好的解决了涉及到界面上贵金属擦除的工作,尤其是对电子电路中的贵金属回收具有重大应用价值。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910025441.X
申请日
2019-01-11
公开日
2021-07-09
公开号
CN109811341B
主分类号
/C/C21/ 化学;冶金
标准类别
铁的冶金
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

顾忠泽 曾易 杜鑫

申请人

东南大学

申请人地址

210000 江苏省南京市江宁区东南大学路2号

专利摘要

本发明公开了一种可擦除贵金属的基底及其应用,该基底为两层结构,其下层为衬底(a),上层的聚多酚类物质涂层(b)修饰在衬底上。
该基底应用于擦除回收贵金属,包括以下步骤:1)在可擦除贵金属的基底表面制备贵金属涂层(c);2)将具有贵金属涂层(c)的基底浸泡到回收溶液中,反应一段时间后,贵金属涂层(c)可自发擦除;3)在反应后的回收溶液中回收贵金属。
上述基底可在常温常压、无添加酸碱的情况下实现对贵金属涂层的擦除,实现对贵金属的回收;该应用方法反应条件温和,可用于任意不溶于水的材料表面,扩展了该方法的通用性,很好的解决了涉及到界面上贵金属擦除的工作,尤其是对电子电路中的贵金属回收具有重大应用价值。

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