本发明公开了一种多层结构以及制备方法，所述多层结构包括基材、在所述基材上形成的过渡层以及在过渡层上形成的膜层，所述制备方法包括如下步骤：S1、基材的预处理：将基材通过等离子体放电进行清洁和活化；S2、过渡层的制备：通过等离子体放电在基材表面沉积一层过渡层；S3、膜层的制备：通过等离子体放电在过渡层上沉积膜层：S4、后处理：使膜层固化。
本发明可以增强膜层和基材的结合力，并提高膜层的机械强度。

杨诚 崔元正

清华大学深圳研究生院

518055 广东省深圳市南山区西丽大学城清华校区

本发明公开了一种多层结构以及制备方法，所述多层结构包括基材、在所述基材上形成的过渡层以及在过渡层上形成的膜层，所述制备方法包括如下步骤：S1、基材的预处理：将基材通过等离子体放电进行清洁和活化；S2、过渡层的制备：通过等离子体放电在基材表面沉积一层过渡层；S3、膜层的制备：通过等离子体放电在过渡层上沉积膜层：S4、后处理：使膜层固化。
本发明可以增强膜层和基材的结合力，并提高膜层的机械强度。