本发明公开了一种金属薄板表面处理用连续式真空镀膜装置，包括壳体，所述壳体的顶部设置有封盖，所述壳体的中间固定安装有支架，所述支架为镂空，所述壳体的内壁上安装有加热装置，所述加热装置位于支架的上方，壳体的内壁开设有液体流道，所述液体流道位于支架的下方，所述液体流道的末端开设有流液口，所述流液口位于壳体的内部底面，所述壳体的内部底部设置有加热组件，壳体的内壁开设有液体流道，所述液体流道位于支架的下方，所述液体流道的末端开设有流液口，所述流液口位于壳体的内部底面，所述壳体的内部底部设置有加热组件，支架的底部设置有阀体，本发明，具有实用性强和可以降低镀膜材料的沸点的特点。

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本发明公开了一种金属薄板表面处理用连续式真空镀膜装置，包括壳体，所述壳体的顶部设置有封盖，所述壳体的中间固定安装有支架，所述支架为镂空，所述壳体的内壁上安装有加热装置，所述加热装置位于支架的上方，壳体的内壁开设有液体流道，所述液体流道位于支架的下方，所述液体流道的末端开设有流液口，所述流液口位于壳体的内部底面，所述壳体的内部底部设置有加热组件，壳体的内壁开设有液体流道，所述液体流道位于支架的下方，所述液体流道的末端开设有流液口，所述流液口位于壳体的内部底面，所述壳体的内部底部设置有加热组件，支架的底部设置有阀体，本发明，具有实用性强和可以降低镀膜材料的沸点的特点。