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专利摘要

本发明公开了一种管式直接PECVD制备太阳电池SiC减反射膜的方法,包括以下步骤:对硅片进行制绒,所得硅片于管式PECVD设备炉管中沉积SiC减反射膜;冷却,取出硅片,完成对SiC减反射膜的制备。
本发明方法通过利用管式PECVD设备并改良工艺步骤和工艺参数,在无需改变设备的条件下,可以兼容现有的产线设备实现SiC减反射膜的沉积,不仅有利于提高旧产线或旧设备的利用率,具有量产门槛低的优点,同时还具有工设备投资成本低、制备成本低等优点,且由此制得的SiC减反射膜表现出较好的性能,如较低的吸光率、较高的电导率,从而有利于制备得到高光电转换效率的太阳电池,对于实现太阳电池的广泛应用具有十分重要的意义。

专利状态

基础信息

专利号
CN201910962753.3
申请日
2019-10-11
公开日
2021-07-16
公开号
CN110707160B
主分类号
/C/C23/ 化学;冶金
标准类别
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子
批准发布部门
国家知识产权局
专利状态
有效专利

发明人

周子游

申请人

湖南红太阳光电科技有限公司

申请人地址

410205 湖南省长沙市高新开发区桐梓坡西路586号

专利摘要

本发明公开了一种管式直接PECVD制备太阳电池SiC减反射膜的方法,包括以下步骤:对硅片进行制绒,所得硅片于管式PECVD设备炉管中沉积SiC减反射膜;冷却,取出硅片,完成对SiC减反射膜的制备。
本发明方法通过利用管式PECVD设备并改良工艺步骤和工艺参数,在无需改变设备的条件下,可以兼容现有的产线设备实现SiC减反射膜的沉积,不仅有利于提高旧产线或旧设备的利用率,具有量产门槛低的优点,同时还具有工设备投资成本低、制备成本低等优点,且由此制得的SiC减反射膜表现出较好的性能,如较低的吸光率、较高的电导率,从而有利于制备得到高光电转换效率的太阳电池,对于实现太阳电池的广泛应用具有十分重要的意义。

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