本发明公开了一种原子层沉积设备及方法，该设备包括反应腔室、尾气处理装置、多条传输管路、多条尾气处理管路、多条吹扫支路以及多个前驱体源瓶，其中，每条传输管路均连接至反应腔室，以将所对应的前驱体选择性地通入反应腔室；每条尾气处理管路均连接至尾气处理装置，且每条尾气处理管路均通过对应的吹扫支路与一条传输管路连接；每条尾气处理管路均选择性地与尾气处理装置或传输管路连通。
本发明通过增加吹扫旁路，加大吹扫气体的流量，可有效降低吹扫时间，提高设备产能，节约成本；并且采用渐变气流场的吹扫方式，更有利于残留前驱体或颗粒的去除，避免产生工艺颗粒，提高薄膜质量。

赵雷超 史小平 李春雷 秦海丰 纪红 张文强

北京北方华创微电子装备有限公司

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本发明公开了一种原子层沉积设备及方法，该设备包括反应腔室、尾气处理装置、多条传输管路、多条尾气处理管路、多条吹扫支路以及多个前驱体源瓶，其中，每条传输管路均连接至反应腔室，以将所对应的前驱体选择性地通入反应腔室；每条尾气处理管路均连接至尾气处理装置，且每条尾气处理管路均通过对应的吹扫支路与一条传输管路连接；每条尾气处理管路均选择性地与尾气处理装置或传输管路连通。
本发明通过增加吹扫旁路，加大吹扫气体的流量，可有效降低吹扫时间，提高设备产能，节约成本；并且采用渐变气流场的吹扫方式，更有利于残留前驱体或颗粒的去除，避免产生工艺颗粒，提高薄膜质量。