本发明涉及一种方法、非易失性存储器和控制设备。
根据不同的实施形式，用于涂布的方法(100)可以具有：借助多个涂布过程在第一衬底(112)上形成(101)第一层堆叠，其中每个涂布过程形成第一层堆叠的至少一个层；检测(103)第一层堆叠的光谱；通过使用模型确定(105)所述多个涂布过程中的至少一个涂布过程的校正信息，其中所述模型提供了在所述谱与期望谱的偏差和所述校正信息之间的双射的映射函数；以及通过使用所述校正信息改变(107)用于调节所述多个涂布过程中的至少一个涂布过程的至少一个调节参数；以及借助所述多个涂布过程通过使用改变的调节参数在第一或第二衬底(112)上形成(109)第二层堆叠，其中每个涂布过程形成所述第二层堆叠的至少一个层。

斯特芬·莫斯哈默

冯·阿登纳资产股份有限公司

德国德累斯顿

本发明涉及一种方法、非易失性存储器和控制设备。
根据不同的实施形式，用于涂布的方法(100)可以具有：借助多个涂布过程在第一衬底(112)上形成(101)第一层堆叠，其中每个涂布过程形成第一层堆叠的至少一个层；检测(103)第一层堆叠的光谱；通过使用模型确定(105)所述多个涂布过程中的至少一个涂布过程的校正信息，其中所述模型提供了在所述谱与期望谱的偏差和所述校正信息之间的双射的映射函数；以及通过使用所述校正信息改变(107)用于调节所述多个涂布过程中的至少一个涂布过程的至少一个调节参数；以及借助所述多个涂布过程通过使用改变的调节参数在第一或第二衬底(112)上形成(109)第二层堆叠，其中每个涂布过程形成所述第二层堆叠的至少一个层。